Couloscope CMS2 STEP庫侖測厚儀操作步驟
COULOSCOPE MMS 測試儀器是一個(gè)功能非常強(qiáng)大而操作比較簡便的儀器。使用時(shí)的一個(gè)原則是
多看顯示屏上的提示，根據(jù)它的提示一步一步地去做，這往往事半功倍；其二，要注意軟鍵功能的
變化，在不同的程序中有不同的功能；其三，許多功能都是由 MENU 菜單來開啟，隨后皆有提示，可
按部就班的進(jìn)行。
一、測量界面說明
屏幕右上角顯示當(dāng)前時(shí)間，下面依次顯示當(dāng)前應(yīng)用程式的信息：例如薄可測厚度 thmin＝
0.30um，電解速度 Deplating rate 2.00um/min，修正系數(shù) Corr.fact：1.00。
中間左半部分是當(dāng)前應(yīng)用程式的形象圖解說明，右半部分顯示測量數(shù)值。
下面一行顯示當(dāng)前應(yīng)用程式的編號和名稱，例如 Appl20：APPL.NO.20，數(shù)據(jù)總數(shù) N_tot＝15。
右邊為相應(yīng)軟鍵的功能，按 BLOCK RES.可以顯示單個(gè)數(shù)據(jù)組的統(tǒng)計(jì)值；按 EVALUATE 可以查看
單個(gè)或多個(gè)數(shù)據(jù)組的統(tǒng)計(jì)值以及 SPC 圖、Σ圖；用上下箭頭可以翻看測量數(shù)據(jù)。
二、基本操作
1．設(shè)立應(yīng)用程式例如 0.5umCr/4umNi/10umCu/Fe：
MENU→在應(yīng)用程式欄中選擇新建應(yīng)用程式（0）→挑一個(gè)空的序號，例如 5 即輸入數(shù)字 5→ENTER
→用上下箭頭選擇鍍層數(shù) Select number of coatings，例如 3 coatings→確認(rèn)→選擇測量頂
層鍍層 Cr/Ni 的應(yīng)用程式和電解速度（電解速度根據(jù)實(shí)際鍍層厚度選擇，一般電解時(shí)間控制在 1
分鐘左右），按 PAGE 軟鍵可以翻頁，依據(jù)本例選 16 即輸入數(shù)字 16→確認(rèn)→選擇墊圈 gasket 的
尺寸，例如ф1.5mm（yellow）→確認(rèn)→選擇測量中間層 Ni/Cu 的應(yīng)用程式 43，輸入數(shù)字 43→
確認(rèn)→選擇墊圈 gasket 的尺寸，注意：同一個(gè)應(yīng)用程式，只能用一種墊圈尺寸，所以還選ф1.5mm
（yellow）→確認(rèn)→選擇測量里層鍍層 Cu/Fe 的應(yīng)用程式 33，輸入數(shù)字 33→確認(rèn)→選擇墊圈
gasket 的尺寸ф1.5mm（yellow）→確認(rèn)，這時(shí)可以看到剛才建立應(yīng)用程式的信息，請核對是否
正確，按 ENTER 鍵可以跳到下一個(gè)項(xiàng)目，按數(shù)字 2，8 鍵可以切換當(dāng)前選項(xiàng)→確認(rèn)→這時(shí)可以更
改應(yīng)用程式的名稱，按數(shù)字 2，4，6，8 鍵可以選擇所需字符，按 ENTER CHAR 軟鍵可以輸入選
定字符→CONFIRM，回到測量狀態(tài)，應(yīng)用程式已建立。
2．校準(zhǔn)：CAL
CAL→修改系數(shù)（軟鍵）→將標(biāo)準(zhǔn)片的標(biāo)稱值輸入小框內(nèi)→確認(rèn)→按 START 鍵開始測量→確認(rèn)→
校準(zhǔn)完成，返回測量狀態(tài)。先把修正系數(shù) Corr.factor 重置為 1.00。
3．應(yīng)用程式：SELECT APPL
因?yàn)樵搩x器可測量各種鍍層體系，故針對要測量的鍍層，可使用 APPL.No.鍵來挑選當(dāng)前要使用
的應(yīng)用程式。
SELECT APPL→選某個(gè)要用的應(yīng)用程式的序號→ENTER→進(jìn)入該應(yīng)用程式的測量界面。
4. 修改應(yīng)用程式：MODIFY APPL
測量時(shí)，如果儀器停不下來（漏液肯定停不了），可以修改突變電壓。
只能在修改當(dāng)前應(yīng)用測試。
MEUN→在應(yīng)用程式欄中選擇修改應(yīng)用程式（1）→NEW ΔU 軟鍵→CHANGE 軟鍵→輸入密碼 159，
并用 ENTER 鍵確認(rèn)→用數(shù)字鍵輸入新的突變電壓值ΔU→用 ENTER 鍵確認(rèn)，移動(dòng)光標(biāo)位置，修改下一
層的突變電壓值→修改完成后用 CONFIRM 軟鍵確認(rèn)，返回測量界面。
三．通過 MENU 菜單鍵進(jìn)行內(nèi)部設(shè)置的一些操作：
應(yīng)用程式欄
0. 新建應(yīng)用程式。
1．修改應(yīng)用程式：
MENU→1→ENTER
2．刪除應(yīng)用程式內(nèi)的數(shù)據(jù)：
MENU→2→ENTER 警告：所有的數(shù)據(jù)將被刪除→DEL 軟鍵執(zhí)行刪除，ESCAPE 取消操作→返回測量
界面。
3.復(fù)制應(yīng)用程式
MENU→3→出現(xiàn)已有的各個(gè) APPL→選 APPL 的序號，例如“8” →8→ENTER→出現(xiàn) New Application
Number→輸入一個(gè)空位，例如：20 →ENTER→在 20 的位置上將出現(xiàn)一個(gè)程序 8 的 COPY。
4．刪除應(yīng)用程式：
MENU→4→ENTER→選一個(gè)要?jiǎng)h除的程式（例如程式 6，注意，無法刪除當(dāng)前應(yīng)用程式）→6→DEL
（軟鍵）→警告→DEL（該程式 6 已被刪除）→回選擇界面，可進(jìn)行另一次的刪除。如要返回測
量狀態(tài)→MEAS OK。
